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                  表面科學(xué)

                  2020-10-16
                  出處:族譜網(wǎng)
                  作者:阿族小譜
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                  歷史表面化學(xué)領(lǐng)域開始于由保羅·薩巴捷(PaulSabatier)在氫化上開創(chuàng)的多相催化和弗里茨·哈伯(FritzHaber)對哈柏法的開發(fā)。歐文·朗繆爾(IrvingLangmuir)也是這個領(lǐng)域的創(chuàng)始人之一,表面科學(xué)的科學(xué)雜志《朗繆爾(期刊)》(《Langmuir》)以他的名字命名。朗繆爾吸附方程(英語:Langmuiradsorptionmodel)用于模擬單層吸附,其中所有表面吸附位點(diǎn)對吸附物種具有相同的親和力。格哈德·埃特爾(GerhardErtl)在1974年首次描述了使用稱為低能電子衍射(LEED)的新技術(shù)在鈀表面上吸附氫。隨后是對鉑,鎳,和鐵的類似研究。表面科學(xué)方面的最新發(fā)展包括2007年諾貝爾化學(xué)獎得主格哈德·埃特爾在表面化學(xué)領(lǐng)域的進(jìn)步,特別是他對一氧化碳分子和鉑表面之間相互作用的研究。表面化學(xué)表面化學(xué)可以粗略地定義為在界面處化學(xué)反應(yīng)的研究。它與表面工程密切相關(guān),其目的在于...

                  歷史

                  表面化學(xué)領(lǐng)域開始于由保羅·薩巴捷(Paul Sabatier)在氫化上開創(chuàng)的多相催化和弗里茨·哈伯(Fritz Haber)對哈柏法的開發(fā) 。歐文·朗繆爾(Irving Langmuir)也是這個領(lǐng)域的創(chuàng)始人之一,表面科學(xué)的科學(xué)雜志《朗繆爾 (期刊)》(《Langmuir》)以他的名字命名。 朗繆爾吸附方程 ( 英語 : Langmuir adsorption model ) 用于模擬單層吸附,其中所有表面吸附位點(diǎn)對吸附物種具有相同的親和力。格哈德·埃特爾(Gerhard Ertl)在1974年首次描述了使用稱為低能電子衍射(LEED)的新技術(shù)在鈀表面上吸附氫 。隨后是對鉑 ,鎳 ,和鐵 的類似研究。表面科學(xué)方面的最新發(fā)展包括2007年諾貝爾化學(xué)獎得主格哈德·埃特爾在表面化學(xué)領(lǐng)域的進(jìn)步,特別是他對一氧化碳分子和鉑表面之間相互作用的研究。

                  表面化學(xué)

                  表面化學(xué)可以粗略地定義為在界面處化學(xué)反應(yīng)的研究。它與表面工程密切相關(guān),其目的在于通過引入選擇的元素或官能團(tuán)來改變表面的化學(xué)組成,所述元素或官能團(tuán)在表面或界面的性質(zhì)中產(chǎn)生各種期望的效果或改進(jìn)。表面科學(xué)對多相催化,電化學(xué)和地球化學(xué)領(lǐng)域特別重要。

                  催化

                  電化學(xué)

                  地球化學(xué)

                  表面物理

                  表面物理學(xué)可以粗略地定義為在界面處發(fā)生的物理變化的研究。它與表面化學(xué)重疊。通過表面物理研究的一些事物包括表面狀態(tài), 表面擴(kuò)散 ( 英語 : Surface diffusion ) , 表面重建 ( 英語 : 表面重建 ) ,表面聲子和等離子體(Plasmon),外延和 表面增強(qiáng)拉曼散射 ( 英語 : Surface-enhanced Raman spectroscopy ) ,電子的發(fā)射和隧穿,自旋電子學(xué)和納米結(jié)構(gòu)在表面上的自組裝。在由納米級尺度上的幾何約束限定的 約束液體 ( 英語 : Confined liquid ) (Confined liquid)中,大多數(shù)分子感測到一些表面效應(yīng),這可能導(dǎo)致物理性質(zhì)嚴(yán)重偏離本體液體(Bulk liquid)的物理性質(zhì)。

                  分析技術(shù)

                  表面的研究和分析涉及物理的和化學(xué)的分析技術(shù)。

                  幾種現(xiàn)代方法探測暴露于真空的最上面1-10nm的表面。這些包括X射線光電子能譜法,俄歇電子能譜法,低能電子衍射法(LEED),電子能量損失譜法, 熱脫附譜 ( 英語 : Thermal desorption spectroscopy ) 法,離子散射譜法, 二次離子質(zhì)譜 ( 英語 : Secondary ion mass spectrometry ) 法, 雙極化干涉 ( 英語 : Dual-polarization interferometry ) 法,以及其他 材料分析方法 ( 英語 : List of materials analysis methods ) 。許多這些技術(shù)需要真空,因為它們依賴于從所研究的表面發(fā)射的電子或離子的檢測。

                  純光學(xué)技術(shù)可用于在各種條件下研究界面。

                  X射線散射和光譜技術(shù)也用于表征表面和界面。

                  X射線光電子能譜學(xué)(XPS)是用于測量表面物質(zhì)的化學(xué)狀態(tài)和用于檢測表面污染的存在的標(biāo)準(zhǔn)工具。

                  現(xiàn)代物理分析方法包括掃描隧道顯微鏡(STM)和從其衍生的一系列方法,包括原子力顯微鏡(AFM)。

                  參閱

                  界面(物質(zhì)) ( 英語 : Interface (matter) )

                  開爾文探針力顯微鏡

                  表面處理

                  摩擦學(xué)


                  免責(zé)聲明:以上內(nèi)容版權(quán)歸原作者所有,如有侵犯您的原創(chuàng)版權(quán)請告知,我們將盡快刪除相關(guān)內(nèi)容。感謝每一位辛勤著寫的作者,感謝每一位的分享。

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